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反射光譜薄膜測厚儀
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MProbe NIR薄膜測厚儀
參考價格:15-20萬
采用近紅外光譜(NIR)的薄膜測厚儀,可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應用領域,比如在可見光范圍內(nèi)有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。
采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應用領域,比如在可見光范圍內(nèi)有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。
測量范圍: 100 nm -200um
波長范圍: 900 nm -2500 nm
適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
測量指標:薄膜厚度,光學常數(shù)
界面友好強大: 一鍵式測量和分析。
實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。
(MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示)
系統(tǒng)性能參數(shù):
精度
<0.01nm or 0.01%
準確度
<0.2%
or 1 nm
穩(wěn)定性
<0.02nm
or 0.03%
光斑直徑
標準3mm, 可以小至3um
樣品大小
大于1 mm
技術參數(shù):
測量范圍
100nm-200um
精度
<0.01nm
or 0.01%
準確度
<0.2%
or 1 nm
穩(wěn)定性
<0.02nm
or 0.03%
波長范圍
NIR: 900-1700
NIRX: 900-2200
NIRX2:1550-2500nm
光譜儀和檢測器
F4光譜儀,256/512/1024像素InGaAs PDA檢測器,16位深,TE制冷,高靈敏度,高動態(tài)范圍,信噪比:大于6000
光譜分辨率
小于4nm(512像素)
光源
5W鹵鎢燈,色溫2800,壽命:10000小時
反射探頭
光導光纖(7個纖芯),纖芯400um
可選硬件模塊:
FLNIR
石英聚焦透鏡,工作距離:35mm,光斑直徑:小于0.5mm
FDHolder
面向下面樣品適配器,用于透明樣品
TO
透射率測量模塊
TO Switch
2個通道轉(zhuǎn)換器,用于反射率和透射率測量
20W
20W鹵鎢燈(色溫3100,壽命2000小時)
TR
5V TTL外觸發(fā)模塊,1個外部in觸發(fā),啟動測量,6路out觸發(fā)
可選軟件模塊: | |
MOD | 遠程控制(TCP),基于Modbus協(xié)議 |
KM | 動態(tài)測量模塊,設定時間間隔,用于在線測量 |
訂購信息:
MProbe NIR-AA-BBBB
AA:光譜范圍(OO:900-1700nm;OX:900-2200nm;X2:1550-2200nm)
BBBB:InGaAs PDA像素數(shù)量(256,512或1024)
例如:MProbe NIR-OO-512,代表900-1700nm光譜,512像素檢測器
我們樂意為您進行免費樣品測量,歡迎來電咨詢。
美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司
Email:info@filmgauge.com.cn
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MProbe UVVisSR薄膜測厚儀
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -50um 波長范圍: 200 nm -1000 nm MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標:薄膜厚度,光學常數(shù) 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。 (MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示 ) 系統(tǒng)性能參數(shù): 精度 <0.01nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1,73nm SiN氮化硅薄膜的測量 硅晶圓反射率,測量時間10ms 使用Tauc-Lorentz模型,測量SiN薄膜的n和k值 技術參數(shù): 測量范圍 100nm-2...
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MProbe Vis薄膜測厚儀
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。 測量范圍: 15 nm -50um 波長范圍: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標:薄膜厚度,光學常數(shù) 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。 (MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示) 性能參數(shù): 精度 <0.01nm or0.01% 準確度 <0.2% or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1,300nm二氧化硅薄膜的測量: 硅晶圓反射率,測量時間10ms: 案例2,測量500nm氮化鋁,測量參數(shù):厚度和表面粗糙...
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MProbe RT薄膜測厚儀
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -20um(UVVis),1nm-150um(UVVisNIR) 波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis) 200nm-1700nm(UVVisNIR) 適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等; 藍寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波長范圍(200-1700nm): 系統(tǒng)性能參數(shù): 精度 <0.1nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.05nmor 0.03% 光斑直徑 標準2mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 測量指標:薄膜厚度,光學常數(shù) 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。 技術參數(shù): 測量范圍 ...
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MProbe系列薄膜測厚儀
當一束光入射到薄膜表面時,薄膜上表面和下表面的反射光會發(fā)生干涉,干涉的發(fā)生與薄膜厚度及光學常數(shù)等有關,反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。 反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、精確且快速的光學薄膜厚度測量技術。 測量范圍: 1 nm - 1 mm 波長范圍: 200 nm -8000 nm 光斑尺寸:2mum -3 um 產(chǎn)品特點: a. 最高的測量精度:0.01nm或0.01% b. 準確度:1nm或0.2% c. 穩(wěn)定性:0.02nm或0.02% d. 強大的軟件材料庫,包含500多種材料的光學常數(shù) e. 通過Modbus TCP或OPC協(xié)議,與其他設備聯(lián)用 適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 標準配置中包含: 1. 主機(光譜儀,光源,電線) 2. 反射光纖 3. 樣品臺及光纖適配器 4. TFCompanion軟件 5. 校準套裝 6. 測試樣品,200nm...