產(chǎn)品中心
products center
行業(yè)應(yīng)用 · Application
最新新聞· Latest News
聯(lián)系我們
聯(lián)系人：黃先生
電 話：400-992-5592
郵 箱：info@filmgauge.com.cn
地 址：上海市嘉定區(qū)瀏翔公路955號1號樓A座
您的當(dāng)前位置：全耀首頁 > 產(chǎn)品中心 > 反射光譜薄膜測厚儀 > MAI顯微鏡適配器
反射光譜薄膜測厚儀
[返回列表]
MAI顯微鏡適配器
MAI顯微鏡適配器，可與任何一臺正置顯微聯(lián)用，將MProble系列薄膜測厚儀加到顯微鏡上，用于微小樣品的厚度測量，包含一個200萬像素CCD，可對測量區(qū)域進(jìn)行成像。
MAI顯微鏡適配器，可與任何一臺正置顯微聯(lián)用，將MProble系列測厚儀加到顯微鏡上，用于微小樣品的厚度測量，包含一個200萬像素CCD，可對測量區(qū)域進(jìn)行成像。
| 尺寸 | 100mm x 40mm x 30mm |
| 重量 | 0.5kg |
| 顯微鏡接口 | C型接口 |
| 相機(jī) | 200萬像素 |
| 通訊 | USB連接 |
| 電源 | USB供電 |
（MAI顯微鏡適配器示意圖）
（測量區(qū)域拍照，十字線中點(diǎn)為測量點(diǎn)）
我們樂意為您進(jìn)行免費(fèi)樣品測量，歡迎來電咨詢。
美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設(shè)備有限公司
Email：info@filmgauge.com.cn
上海全耀代理產(chǎn)品：膜厚測量儀，薄膜測試儀，膜厚儀，厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等，歡迎廣大用戶前來訂購。
上一個產(chǎn)品： MProbe NIR薄膜測厚儀
下一個產(chǎn)品： 便攜式探頭
-
MProbe系列薄膜測厚儀
當(dāng)一束光入射到薄膜表面時，薄膜上表面和下表面的反射光會發(fā)生干涉，干涉的發(fā)生與薄膜厚度及光學(xué)常數(shù)等有關(guān)，反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。 反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)。 測量范圍: 1 nm - 1 mm 波長范圍: 200 nm -8000 nm 光斑尺寸:2mum -3 um 產(chǎn)品特點(diǎn)： a. 最高的測量精度：0.01nm或0.01% b. 準(zhǔn)確度：1nm或0.2% c. 穩(wěn)定性：0.02nm或0.02% d. 強(qiáng)大的軟件材料庫，包含500多種材料的光學(xué)常數(shù) e. 通過Modbus TCP或OPC協(xié)議，與其他設(shè)備聯(lián)用 適用于實(shí)時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 標(biāo)準(zhǔn)配置中包含： 1. 主機(jī)(光譜儀，光源，電線) 2. 反射光纖 3. 樣品臺及光纖適配器 4. TFCompanion軟件 5. 校準(zhǔn)套裝 6. 測試樣品，200nm...
-
便攜式探頭
測量曲面樣品或樣品無法移動時，需要用到特殊的探頭，這些探頭包裹一層柔性橡膠，可以直接放到樣品上面，用光纖將其與主機(jī)相連。基于不同的應(yīng)用，有三個型號可選。 MP-FLVi：用于基底較薄且透光的薄膜，需要消除背面反射 MP-RP90：用于可接受2mm光斑直徑及不需要考慮背面反射的樣品 MP-RP45：可用45度測量厚度 MP-FLVis 包含可見光聚焦鏡頭，0.4mm光斑直徑 MP-RP90 2mm光斑直徑，光譜范圍較寬 MP-RP45 包含兩個石英準(zhǔn)直器，以45度角測量樣品 我們樂意為您進(jìn)行免費(fèi)樣品測量，歡迎來電咨詢。 美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設(shè)備有限公司 全國咨詢熱線：400-992-5592 Email：info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理產(chǎn)品：膜厚測量儀，薄膜測試儀，膜厚儀，厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等，歡迎廣大用戶前來訂購。
-
MProbe UVVisSR薄膜測厚儀
該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -50um 波長范圍: 200 nm -1000 nm MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用于實(shí)時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù) 界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測量和分析。 實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。 （MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示 ） 系統(tǒng)性能參數(shù)： 精度 <0.01nm or 0.01% 準(zhǔn)確度 <0.2%or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標(biāo)準(zhǔn)3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1，73nm SiN氮化硅薄膜的測量 硅晶圓反射率，測量時間10ms 使用Tauc-Lorentz模型，測量SiN薄膜的n和k值 技術(shù)參數(shù)： 測量范圍 100nm-2...
-
MProbe RT薄膜測厚儀
該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR) 波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis) 200nm-1700nm(UVVisNIR) 適用于實(shí)時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等； 藍(lán)寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波長范圍(200-1700nm)： 系統(tǒng)性能參數(shù)： 精度 <0.1nm or 0.01% 準(zhǔn)確度 <0.2%or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.05nmor 0.03% 光斑直徑 標(biāo)準(zhǔn)2mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 測量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù) 界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測量和分析。 實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。 技術(shù)參數(shù)： 測量范圍 ...
