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反射光譜薄膜測厚儀
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MProbe Vis薄膜測厚儀
參考價格：15-20萬
MProbe Vis薄膜測厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。
測量范圍: 15 nm -50um
波長范圍: 400 nm -1100 nm
MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
測量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù)
界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測量和分析。
MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。
（MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示）
性能參數(shù)：
| 精度 | <0.01nm or 0.01% |
| 準(zhǔn)確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩(wěn)定性 | <0.02nm or 0.03% |
| 光斑直徑 | 標(biāo)準(zhǔn)3mm, 可以小至3um |
| 樣品大小 | 大于1 mm |
案例1，300nm二氧化硅薄膜的測量：
硅晶圓反射率，測量時間10ms：
案例2，測量500nm氮化鋁，測量參數(shù)：厚度和表面粗糙度
技術(shù)參數(shù)：
| 測量范圍 | 15nm-50um |
| 精度 | <0.01nm or 0.01% |
| 準(zhǔn)確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩(wěn)定性 | <0.02nm or 0.03% |
| 波長范圍 | 400-1100nm |
| 光譜儀和檢測器 | F4光譜儀，3600像素CCD檢測器，16位深 |
| 光譜分辨率 | 小于2nm（標(biāo)準(zhǔn)），可選1nm |
| 光源 | 5W鹵鎢燈，色溫2800，壽命：10000小時 |
| 反射探頭 | 光導(dǎo)光纖（7個纖芯），纖芯400um |
可選硬件模塊
FLVis
消色差聚焦透鏡，工作距離：35mm，光斑直徑：小于0.5mm
FDHolder
面向下面樣品適配器，用于透明樣品
TO
透射率測量模塊
TO Switch
2個通道轉(zhuǎn)換器，用于反射率和透射率測量
20W
20W鹵鎢燈（色溫3100，壽命2000小時）
TR
5V TTL外觸發(fā)模塊，1個外部in觸發(fā)，啟動測量，6路out觸發(fā)
LP500
長通濾光片，過濾500nm以下光譜，用于光刻膠，其他波長可選
| 可選軟件模塊 | |
| MOD | 遠(yuǎn)程控制（TCP），基于Modbus協(xié)議 |
| CM | 動態(tài)測量模塊，設(shè)定時間間隔，用于在線測量 |
我們樂意為您進(jìn)行免費樣品測量，歡迎來電咨詢。
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MProbe UVVisSR薄膜測厚儀
該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -50um 波長范圍: 200 nm -1000 nm MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù) 界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。 （MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示 ） 系統(tǒng)性能參數(shù)： 精度 <0.01nm or 0.01% 準(zhǔn)確度 <0.2%or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標(biāo)準(zhǔn)3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1，73nm SiN氮化硅薄膜的測量 硅晶圓反射率，測量時間10ms 使用Tauc-Lorentz模型，測量SiN薄膜的n和k值 技術(shù)參數(shù)： 測量范圍 100nm-2...
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MProbe RT薄膜測厚儀
該機(jī)大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR) 波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis) 200nm-1700nm(UVVisNIR) 適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等； 藍(lán)寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波長范圍(200-1700nm)： 系統(tǒng)性能參數(shù)： 精度 <0.1nm or 0.01% 準(zhǔn)確度 <0.2%or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.05nmor 0.03% 光斑直徑 標(biāo)準(zhǔn)2mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 測量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù) 界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。 技術(shù)參數(shù)： 測量范圍 ...
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MProbe NIR薄膜測厚儀
采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應(yīng)用領(lǐng)域，比如在可見光范圍內(nèi)有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。 測量范圍: 100 nm -200um 波長范圍: 900 nm -2500 nm 適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 測量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù) 界面友好強(qiáng)大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。 （MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示） 系統(tǒng)性能參數(shù)： 精度 <0.01nm or 0.01% 準(zhǔn)確度 <0.2%or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標(biāo)準(zhǔn)3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 技術(shù)參數(shù)： 測量范圍 100nm-200um 精度 <0.01nmor 0.01% 準(zhǔn)確度 <0.2%or 1 nm 穩(wěn)定性 <0.02nmor 0.03% 波長范圍 NIR: 900-1700 NIRX: 900-2200 NIRX2:1550-2500nm ...
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MAI顯微鏡適配器
MAI顯微鏡適配器，可與任何一臺正置顯微聯(lián)用，將MProble系列測厚儀加到顯微鏡上，用于微小樣品的厚度測量，包含一個200萬像素CCD，可對測量區(qū)域進(jìn)行成像。 尺寸 100mm x 40mm x 30mm 重量 0.5kg 顯微鏡接口 C型接口 相機(jī) 200萬像素 通訊 USB連接 電源 USB供電 （MAI顯微鏡適配器示意圖） （測量區(qū)域拍照，十字線中點為測量點） 我們樂意為您進(jìn)行免費樣品測量，歡迎來電咨詢。 美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設(shè)備有限公司 全國咨詢熱線：400-992-5592 Email：info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理產(chǎn)品：膜厚測量儀，薄膜測試儀，膜厚儀，厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等，歡迎廣大用戶前來訂購。
