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由上海全耀提供的非接觸式光學膜厚儀是利用光學干涉原理和測量薄膜的反射光譜原理得出薄膜的實際厚度。膜厚儀主要用于測量尖端設備的生產中不可或缺的極薄膜、多層膜乃至半導體晶圓的硅膠基板厚度,膜厚儀可滿足用戶各種各樣的需求?;旧纤泄饣摹胪该鞯幕虻臀障禂档谋∧ざ伎梢詼y量。比如:二氧化硅,氮化硅,多晶硅,非晶硅,硅,光刻膠,聚合物膜層,聚酰亞胺等。全耀公司提供產品還包括:膜厚測量儀,薄膜測試儀,厚度測量儀以及薄膜測厚儀等,如果您對我們公司提供的產品有需求,歡迎您隨時撥打我們公司的電話:400-992-5592。
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MProbe系列薄膜測厚儀
當一束光入射到薄膜表面時,薄膜上表面和下表面的反射光會發(fā)生干涉,干涉的發(fā)生與薄膜厚度及光學常數等有關,反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。 反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、精確且快速...
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EC-770 兩用涂層測厚儀
本儀表內置高精密雙探頭,利用電磁感應和渦流效應,全自動探測基材屬性,計算涂鍍層厚度,并通過點陣液晶快速顯示結果。同時,測量數據可分組保存,并實時顯示統(tǒng)計值。用戶可分別為每組設置上下限報警值、零校準、多...
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MProbe Vis薄膜測厚儀
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金...
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MProbe UVVisSR薄膜測厚儀
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚...
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MProbe RT薄膜測厚儀
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚...
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